Описание

Для распыления тонких пленок металлов и диэлектриков на подложки до 200 мм в современных системах распыления NANO-MASTER применяются различные камеры и конфигурации источников. Последовательное либо совместное распыление достигается благодаря оснащению систем источниками питания постоянного тока, импульсного постоянного тока, а также РЧ-источниками. Турбомолекулярная насосная обеспечивает снижение давления до значения 5x10-7 торр. Предусмотрена возможность регулировки расстояния от магнитрона до подложки для достижения желаемой однородности и скорости распыления. Вращающийся держатель для подложек с внеосевыми магнетронами обеспечивает достижение наилучшей равномерности пленки. Для автоматического завершения процесса в системе установлен кварцевый датчик толщины. Держатель для подложек может нагреваться до 800°C и имеет функцию РЧ-смещения.

 

Характеристики:

• Электрополированная 14-дюймовая кубическая камера, оптимизированная для распыления;
• Базовое давление 5х10-7 торр благодаря применению турбонасоса;
• Конфигурация с одним или несколькими магнетронами с различными размерами мишеней;
• Последовательное/совместное распыление;
• Регулируемое расстояние от магнетрона до подложки;
• Размеры плоских магнетронов от 1 до 6 дюймов;
• Затворы для источника и подложки;
• Регуляторы массового расхода с электрополированными газовыми линиями;
• 4-дюймовое смотровое окно с ручным затвором;
• Кварцевый измеритель толщины;
• Вращение подложки;
• Полная автоматизация процесса под управлением ПК в соответствии с заданной программой;
• Интерфейс пользователя, разработанный в среде LabVIEW;
• Средства аварийного отключения и защитные блокировки.

 

Опции:

• Нагрев подложки до 800°C либо охлаждение;
• Осаждение при угле скольжения (GLAD) с вращением;
• Различные размеры камеры;
• Импульсные источники постоянного тока для таких материалов, как ITO/ZnO;
• Наклонные магнетроны;
• Подложки с РЧ смещением;
• Ионный источник для очистки подложки;
• Ионный источник для ионного распыления;
• Дополнительный источник питания постоянного тока и РЧ-источник для совместного напыления;
• Тепловой и электронно-лучевой источники;
• Дополнительные контроллеры массового расхода для реактивного распыления;
• Автоматическая загрузка/выгрузка;
• Различные варианты насосов, включая крио-насосные станции.

 

Область применения

• Оптические покрытия и покрытия из плёнки оксидов индия и олова;
• Твердые покрытия;
• Защитные покрытия;
• Шаблоны для микроэлектроники;
• Прозрачные проводящие оксиды для устройств с органическими светодиодами.

 

Результаты тестирования однородности покрытия, полученного с применением систем распыления NANO-MASTER:

Измерение толщины на подложке размером 6 дюймов (источник информации: отзыв клиента).
Общая толщина Ti, Pt, и Au = 2800 Å 
Pt = 300 Å 
Ti= 300 Å

Для определения отклонения толщина измерялась в 8 точках расколотого сечения:

• № 1:2850 Å 
• № 2: 2850 Å 
• № 3:2825 Å 
• № 4:2825 Å 
• № 5:2810 Å 
• № 6:2800 Å 
• № 7:2800 Å 
• № 8:2800 Å

Средняя толщина: 2820 A 

Отклонение толщины: < 1 %

Однородность данных для 6-дюймовой пластины (Металлы) с 2-дюймовым магнетроном составляет < 1 %.