Описание:

Модель PD-220NA очень гибкая по отношению к возможности проведения разных процессов осаждения и предназначена как для передовых исследований новых процессов, так и для небольших производственных задач. PD-220NA особенно хороша для осаждения кремний-содержащих пленок (SiO2, Si3N4, SiOxNy, a-Si:H).  Все стандартные особенности проведения процессов осаждения поддерживаются в рамках очень небольшого пространства нужного для размещения данной машины. Пленки с очень высокой однородностью по толщине и индексу рефракции можно получать на пластинах диаметром до 230 мм с прекрасным воспроизведением результатов от партии к партии. Компьютеризированный сенсорный экран имеет весьма дружественный интерфейс для управления всеми параметрами и хранения рецептов процессов.

Особенности:

• На цикл осаждения можно использовать следующие загрузки по подложкам: 5 х 75 мм, 3 х 100 мм или 1 х 200 мм
• Однородная скорость осаждения по времени.
• Полная автоматизация процесса (одной кнопкой) и возможность все контролировать вручную.
• Поддержка продолжительного выполнения множественных разнородных процессов, например, процесс очистки пластин и затем процесс осаждения.
• Полный набор блокировок при возникновении нештатных ситуаций защищает оператора и окружающий персонал.

Применения:

• Осаждение оксида кремния (SiOx).
• Осаждение нитрида кремния (SiN).
• Осаждение оксинитридов кремния (SiOxNy).
• Осаждение аморфного кремния (α-Si:H).