Описание:

EasyTube 3000 - усовершенствованная установка, реализующая процесс CVD для синтеза широкого круга наноструктурированных материалов, нанесения тонких пленок и отжига. Позволяет производить бесчисленное множество наноструктур, включая SWNT, MWNT, графен, полупроводниковые нанопровода такие как Si, Ge, ZnO, GaN, BN, тонкие пленки (SiGe, SiO2, Si3N4 и др.) при помощи гидридов, жидких и твердых прекурсоров.Система EasyTube™ 3000 сконструирована в соответствии с современными стандартами по безопасности, может эксплуатироваться с воспламеняющимися газами и высокотоксичными компонентами, включая силан, герман, диборан, фосфин, HCl и металл‐органические прекурсоры.

Область применения:

Наноэлектроника, производство полупроводников, фотовольтаика, MEMS, создание композитных и структурных покрытий и др.

Стандартная спецификация:

• Компьютерное программное обеспечение, позволяющее контролировать процессы, хранить данные, работать с интерфейсом безопасности и генератором рецептов для компьютеров на базе MS Windows.
• Запрограммированные рецепты для SWCNT, DWCNT, полупроводниковых нанопроводов, диэлектрических и SiGe тонких пленок.
• 3-зонная резистивная печь для температур до 1100 °C ( ВЧ нагрев до 1500 °C, опция ).
• Высокая производительность системы с печью FastCool.
• Запатентованная каскадная система контроля температуры в режиме реального времени.
• Консольная система автоматической загрузки.
• Кварцевая реакционная камера диаметром 5”.
• Работа с подложками до 150 мм в диаметре.
• Газовые линии сверхвысокого давления с расходомерами – 4шт.
• Программируемые предупреждения и сигналы тревоги.
• Гарантия 12 месяцев.
• Интуитивно понятное ПО и система взаимоблокировки устройств.
• Сертификация Semi – S2/S8 и CE®.