Регистрация
deal.by
  • Вакуумная электронно-лучевая установка нанесения тонких пленок MARK 50/40 - фото 1 - id-p172373483
  • Вакуумная электронно-лучевая установка нанесения тонких пленок MARK 50/40 - фото 2 - id-p172373483
Вакуумная электронно-лучевая установка нанесения тонких пленок MARK 50/40 - фото 1 - id-p172373483
Характеристики и описание
    • Страна производитель
      США

Область применения:

Установки серии MARK являются «де-факто» стандартом в полупроводниковой промышленности. Они обеспечивают однородность нанесения пленки +/-3% и лучше и воспроизводимость от подложки к подложке +/- 3% и лучше. Системы выпускаются в различных модификациях: от полностью автоматизированного компьютерного управления до ручного. Они экономичны в использовании, обеспечивают быструю загрузку/выгрузку, обеспечивают широчайшие возможности для разных процессов и могут работать с практически любыми размерами, формами подложек из разных маетриалов. Эффективность дизайна серии установок MARK, легкость работы с ними и непревзойденная надежность делают их прекрасным выбором как для массового производства, так и для научных разработок и исследований.

 

Техническая спецификация:

  • Возможность совмещения термического испарения и магнетронного распыления
  • Устройство перемещения подложек 
  • Однородность покрытий:  +/-3% и лучше, воспроизводимость: +/-3% и лучше
  • Осаждение пленок снизу-вверх
  • Оборудование для процессов:

Сферические катоды, ВЧ или постоянный ток (до 4шт).

Электронная пушка.

Со-осаждение.

Резистивные источники.

Смещение, ВЧ или постоянный ток.

Подтрав распылением.

Нагрев подложек до 400°С, многоэлементный.

Травление/предварительная очистка ионным пучком.

Нагрев подложек, станция.

Травление/модификация поверхности в плазме.

  • Источники питания для испарителей:
    • Электронная пушка: 6-10-15 кВт
    • Распыление: 1-3-5-15-30 кВт
    • Нагреватель: 6-10-16 кВт
    • Термическое осаждение:  1-5-10 кВт
  • Рабочая камера (возможное оснащение):

Спектрофотометр

Изоляция источника

Drop well source

Автоматическая загрузка подложек

Легкий доступ к передней и задней дверцам

Напыление на рулонные материалы

Изменение расстояния от источника до подложек

Система загрузки и выгрузки рулонных материалов

Различное расположение портов и смотровых окон

Автоматическая загрузка подложек

  • Подложкодержатели:

С регулируемым углом.

Планетарный в  плоскости.

Вращающийся диск.

Механизм для осаждения на рулоны.

Вращающийся купол.

Заслонка(и).

Вертикальный барабан.

Планетарный в полусфере.

 

Lift off.

  • Элементы системы откачки:

Сухая или масляная форвакуумная откачка.

Высоковакуумный затвор вертикального типа 406 мм в диаметре.

Опции регенерации.

Клапаны форвакуумной линии вертикального типа 75 мм в диам.

Знаменитая откачка под прямым углом.

Контроллер ионизационного датчика.

Очень высокая скорость откачки.

Система контроля подачи газов.

Опция насоса для откачки паров воды.

Ловушка с молекулярным ситом.

Ловушка холодного типа, LN2.

Контроль уровня LN2.

  • Выбор насосов:
    • диффузионный
    • турбомолекулярный
    • криогенный насосы
  • Предельный вакуум:
    • Система 10-9 Торр
    • Камера 10-8 Торр
    • Получение 10-7 Торр за менее чем 25 мин
  • Дополнительный крионасос:
    • Крионасос производительностью 50000 л/с для быстрой откачки паров воды. 

 

Особенности:

  • Отличный дизайн: цилиндрическая вакуумная камера горизонтального типа с двумя торцевыми дверьми.
  • Установка серии MARK может выпускаться в двух спецификациях, включая термическое испарение и магнетронное распыление или в комбинированном исполнении: например, осаждение барьерного слоя из TiW магнетроном и поверхностную пленку из Алюминия посредством электронно-лучевой пушки.
  • Высокая скорость загрузки и разгрузки.
  • Эксплуатационная гибкость.
  • Современная система управления, дополнительная система PLC/PC.
  • Удобство в эксплуатации: система оснащена уникальной, запатентованной скользящей дверцей на передней стенке камеры, которая уменьшает необходимое для работы пространство и обеспечивает легкий доступ.
  • Поддержка подложек из множества различных материалов и разных размеров.
  • Изолирование источника в загрузочной камере, что позволяет обособленно откачивать рабочую камеру до высокого вакуума, прежде чем подвергать ее воздействию со стороны камеры источника, а также проводить предварительные процессы в рабочей камере обособленно от источников.
  • Эффективность дизайна, легкость в управлении и несравнимая надежность делают эту систему прекрасным выбором для широкого ряда производственных применений.
  • Каждая установка комплектуется индивидуально, чтобы отвечать всем необходимым требованиям заказчика.
  • Компоненты системы выбираются таким образом, чтобы оптимизировать стоимость ее производства, производительность и качество.
Был online: 23.04
ООО "Тактиком"
Рейтинг не сформирован
2 года на Deal.by

Вакуумная электронно-лучевая установка нанесения тонких пленок MARK 50/40

Под заказ
Цену уточняйте
Доставка
Оплата и гарантии

У нас покупают