Установка для химического осаждения из паровой среды Applied Producer® XP Precision ™ CVD, разработанная специально для нанесения критически важных пленок, например, используемых в производстве 3D-памяти на элементах И-НЕ, позволяет решить сложные задачи, предъявляемые этой архитектурой, а именно задаваемыми критическими размерами, и необходимостью строгого порядка следования операций технологического процесса.

Специальная конструкция камеры Precision позволяет равномерно осаждать новые слои с необходимым качеством пленки для слоев, структуры затвора в МОП-транзисторов, тем самым позволяя производителям микросхем перейти от планарной к 3D-модели элементов И-НЕ. Уникальная способность подстройки нескольких параметров процесса и среды камеры позволяет пользователям осаждать чередующиеся слои разных пленок с необходимой однородностью и минимальным количеством дефектов.

Установка также позволяет наносить твердую маскирующую пленку нового класса так же, как и с помощью установки Saphira ™ APF. Высокая селективность, низкий уровень напряжения и большая прозрачность которых делают их идеальными для получения элементов с высоким аспектным отношением и плотно структурированных. Данные пленки могут выдерживать длительные процессы травления, необходимые для изготовления 3D-элементов И-НЕ следующего поколения, в которых, как ожидается, количество слоев будет продолжать расти, и новейших DRAM с высоким аспектным соотношением.

Разработанная для высокопроизводительного производства, модульная установка Producer XP Precision, сочетает в себе проверенную в производственных условиях, основанную на шасси Producer, архитектуру и высокоскоростные технологии работы системы с более быстрыми и эффективными камерами Precision для обеспечения максимальной производительности.