Установка Applied Producer Avila PECVD  выполняет плазмохимическое газофазное осаждении (PECVD) линейки высококачественных оксидных и нитридных пленок, удовлетворяющих требованиям низких температур и высокой производительности, необходимых для технологии создания переходных отверстий в кремнии (TSV) и других передовых методов корпусирования.

Технология TSV подразумевает утончение пластины со сформированными приборами и их термокомпрессии с печатной платой из стекла или кремния. Поскольку, обычно, клеящий состав имеют температурный запас около 200ºC, вся последующая обработка на этих гибридных пластинах должна производиться при очень низких температурах. Для нанесения высококачественных пленок при низких температурах требуются уровни мощности радиочастоты, которые наращивают значительный уровень температуры на поверхности пластины. Для поддержания постоянной температуры пластины, установка оснащена активным охлаждением, что обеспечивает стабильность температуры подложки на уровне 130ºC.

Процессы осаждения в установке Avila выполняются на уже зарекомендовавшей себя платформе TwinChamber® Producer® GT ™, которая может обрабатывать до шести пластин одновременно. Мало того, что платформа демонстрирует превосходную обработку склеенных пластин, ее гибкая архитектура может эффективно работать с технологией переходных отверстий в кремнии(TSV) от Applied. Также установка Avila работает в два - три раза эффективнее других доступных систем для создания низкотемпературных диэлектрических пленок и, благодаря своей эффективности, позволяет снижать стоимость затрат на производство одной пластины.