Установка для химического парофазного осаждения при низком давлении Applied Centura SiNgen Plus LPCVD обладает оптимизированной стабильностью температуры в диапазоне от 600 до 800 ° C, высокой пропускной способностью и однородностью пленки для широкого диапазона толщины (100-1000Å), а керамические нагревательные материалы устраняют контакт пластина-металл.

Установка представляет собой систему однослойного химического парофазного осаждения нитрида кремния при низком давлении, которая позволяет избежать ограниченную применимостькамерных печей. Она обеспечивает низкотемпературное осаждение, пленочное напряжение и возможность настройки RI, а также низкий расход частиц нитрида кремния и надежную воспроизводимость изготовления пластин при объемном производстве.