PVD-10 – компактная вакуумная система, позволяющая одинаково качественно проводить процессы термического осаждения из паровой фазы или путем распыления мишени. Благодаря своему дизайну идеально подходит для лабораторий и повседневных научно исследовательских задач
Функция |
Система |
||
PVD-10 E |
PVD-10 S |
PVD-10 H |
|
Нагрев подложки (до 600° С) |
x |
x |
x |
Охлаждения подложки |
x |
x |
x |
Вращения подложки |
x |
x |
x |
Магнетроны (до 4-х) |
- |
x |
В зависимости от кол-ва термических источников |
Расположение магнетронов снизу |
- |
x |
- |
Расположение магнетронов сверху |
- |
x |
x |
Термические источники (до 10-х) |
x |
- |
В зависимости от кол-ва магнетронных источников |
Перчаточный ящик |
x |
- |
x |
Изолирование держателя подложки для подачи смещени |
- |
x |
x |
Ионный источник |
- |
- |
x |
Возможность регулирования рабочего давления |
- |
x |
x |