PVD-4 – компактная вакуумная система, позволяющая одинаково качественно проводить процессы термического осаждения из паровой фазы или путем распыления мишени. Благодаря своему дизайну идеально подходит для лабораторий и повседневных научно исследовательских задач
Функция |
Система |
||
PVD-4 E |
PVD-4 S |
PVD-4 H |
|
Нагрев подложки (до 600° С) |
x |
x |
x |
Охлаждения подложки (до -150° С) |
x |
x |
x |
Вращения подложки |
x |
x |
x |
Магнетроны (до 3-х) |
- |
x |
x |
Расположение магнетронов снизу |
- |
x |
- |
Расположение магнетронов сверху |
- |
x |
x |
Термические источники (до 2-х) |
x |
- |
x |
Шлюзовый загрузчик |
- |
- |
x |
Изолирование держателя подложки для подачи смещения |
- |
x |
x |
Стеклянная камера |
x |
x |
x |
Кварцевый датчик |
x |
x |
x |
Возможность регулирования рабочего давления |
- |
x |
x |
|
|
|
MT-1000 : Манипулятор для подложек 1" с возможностью нагрева до 1000°С |
MP-800 : Манипулятор для подложек до 2" / 800°C с возможностью подачи O2 |
MLN2-800 : Манипулятор -130°C / +800°C |