Описание:

Вакуумная система напыления BAK761 пользуется всемирной репутацией как эталон экономичного, массового производства, используемый в широком ряде приложений, требующих высокой точности в формировании покрытия и повторяемости в больших объемах производства. Ионное травление и термическое осаждение, “Lift-off” и напыление диэлектриков все это – может быть реализовано на одной гибкой платформе BAK-761

 

Основные возможности:

• Электронно-лучевая пушка до 3-х
• Резистивные испарители
• Магнетронные и плазменные источники
• Нагрев подложек (лицевая, обратная сторона)
• Плазменная очистка тлеющим разрядом

 

Контроль процесса: 

• ПО с дружественным интерфейсом, позволяющее пошагово отслеживать и создавать процесс от откачки до напуска. 
• Кварцевый и оптический мониторинг 
• Анализатор остаточного газа 
• Оптическая пирометрия 
• Полная SECS GEM совместимость 

 

Геометрия вакуумной камеры: 

• Стандартная камера – для типичных металлов и диэлектриков 
• Увеличенная дистанция – для Lift-off 
• Отдельный шлюз для источников испарения – для удобства обслуживания 
• Подготовка для расширения модулем автоматического загрузчика Load lock 

 

Подложкодержатели: 

• Стандартные сферические 
• С возможностью переворота 
• Планетарные с 1ой и 2мя осями вращения 
• Разработка спец оснастки 

 

Производительность с различными типами подложкодержателей

Split Systems – Техническое решение компании Evatec

Решение Split Systems подразумевает расположение испарителя и подложек в раздельных вакуумных камерах. Split Systems реализуется в установках семейства BAK и в полной мере использует их широкий функционал в виде контроля за процессом и удобного программного обеспечения. Это решение позволяет держать испаритель под постоянным вакуумом даже во время загрузки – выгрузки подложек, исключая негативное воздействие атмосферы на навеску материала.

Основные возможности:

• Высокая стабильность работы испарителя
• Ускоренное проведение процессов за счет отсутствия необходимости прогревать навеску материала перед напылением
• Идеально подходит для работы с материалами, чувствительными к воздействию окружающей среды
• Легкий доступ к испарителю и удобное обслуживание

 

Спецификация пленок (на пластинах диаметром 4 дюйма)

				Равномерности
Система	Пленка	Толщина [нм]	Скорость [нм/с]	По пластине [%]	Пластина к пластине [%]	Между процессами [%]
BAK	Cu	100	По требованию заказчика	+/-5%	+/-5%	+/-5%
	NiCr	100	По требованию заказчика	+/-5%	+/-5%	+/-5%
	Cr	100	По требованию заказчика	+/-5%	+/-5%	+/-5%
	Ti	100	По требованию заказчика	+/-5%	+/-5%	+/-5%
	Al	100	По требованию заказчика	+/-5%	+/-5%	+/-5%
	Ag	100	По требованию заказчика	+/-5%	+/-5%	+/-5%
	Au	100	По требованию заказчика	+/-5%	+/-5%	+/-5%
	Cr	100	По требованию заказчика	+/-5%	+/-5%	+/-5%