Описание:

Установка STE EB71 представляет собой полностью автоматизированную станцию электронно-лучевого напыления высококачественных тонкопленочных композиций в сверхвысоком вакууме. Установка разрабатывалась в идеологии “lab to fab” и ориентирована как на интенсивные исследования и разработки (R&D), так и на мелкосерийный выпуск продукции в составе пилотной производственно-технологической линии. В конструкцию установки заложена возможность комплексирования и встраивания в состав роботизованных вакуумно-технологических кластерных систем. Максимальное количество напыляемых пластин в одном процессе: 3х3” либо 7х2”, которые устанавливаются на держателе со сферическим профилем, учитывающим особенности процесса “lift-off”.

Конфигурация:

• Камера напыления с электронно-лучевым испарителем, предельное давление <1х10-8 мм рт. ст.
• Камера загрузки/подготовки образцов перед напылением. В камере в качестве опции могут быть установлены либо нагреватель для обезгаживания пластин при температуре 200°С, либо ионная пушка для мягкой очистки поверхности пластины с энергией ионов 20—300 эВ.

В качестве испарителя используется электронно-лучевой испаритель линейного типа сверхвысоковакуумного исполнения с мощностью катодного блока 6 кВт и ускоряющим напряжением до 10 кВ.

Максимальное количество ячеек объемом 15 — 4 шт., объемом 7 — 6 шт.

Особенности конструкции:

• Безмаслянная система откачки на основе производительного ионного насоса 500 л/с со встроенной азотной криопанелью/титановым испарителем (опция) либо крионасос (опция);
• Рабочая камера из нержавеющей стали с уплотнениями типа ConFlat, с интегрированным водяным охлаждением стенок;
• Запатентованная система из трех пространственно разнесенных двухпозиционных кварцевых толщиномера, позволяющих в реальном времени оценивать несимметричность диаграммы распыления либо проводить индивидуальную калибровку датчиков на выделенные материалы;
• Водяной экран для предотвращения запыления камеры распыляемыми материалами, а также для облегчения сбора и утилизации продуктов распыления;
• Манипулятор для установки держателей подложек с вращением (опция), возможностью нагрева образцов до 400°С (опция), а также возможностью изменения расстояния подложка-испаритель в пределах 250—00 мм;
• Предусмотренная возможность установки в качестве опции квадрупольного масс-спектрометра для контроля остаточной атмосферы в процессе напыления;
• Автоматизированный процесс откачки установки и проведения процесса напыления (включая возможность проведения процесса по заранее составленному рецепту).