Описание:

• Безмаслянная система откачки на основе ионного насоса;
• Система прогрева рабочей камеры до 150°С;
• Рабочая камера из нержавеющей стали с уплотнениями типа ConFlat;
• Двухпозиционный кварцевый толщиномер;
• Манипулятор подложки с возможностью изменения расстояния подложка-испаритель в пределах 205-400 мм;
• Полуавтоматизированный процесс откачки/вскрытия рабочей камеры посредством цифровых и аналоговых интерфейсов;
• Вращение образцов;
• Возможность установления терморезистивного испарителя.

Установка STE EB48 является специально разработанной системой электронно-лучевого напыления упрощенной конфигурации для проведения стартовых исследовательских работ по выбору и оптимизации многослойных тонкопленочных покрытий, наносимых на полупроводниковые пластины методом электронно-лучевого испарения в высоком или сверхвысоком вакууме. Максимальный диаметр обрабатываемой пластины: 150 мм. По выбору заказчика установка может комплектоваться держателями для установки пластин диаметром 2”, 3”, 100 мм, 150 мм, 3х2” либо образцов произвольной формы.

Конфигурация:

• Однокамерное исполнение с загрузочным боксом инертной атмосферы, предельное давление в камере напыления: <1х10-7 мм рт. ст. В качестве испарителя используется электронно-лучевой испаритель карусельного (либо линейного) типа с мощностью катодного блока 3 кВт и ускоряющим напряжением не более 4 кВ. Емкость ячеек испарителя — 2,2 см3, количество ячеек (по выбору заказчика): от 4 до 5 шт.
• Двухкамерное исполнение со шлюзом быстрой загрузки и системой прогрева рабочей камеры до 150°С, предельное давление в камере напыления: <1х10-8 мм рт. ст. В качестве испарителя используется электронно-лучевой испаритель линейного типа сверхвысоковакуумного исполнения с мощностью катодного блока 3 кВт и ускоряющим напряжением не более 4 кВ. Емкость ячеек испарителя — 2,2 см3, количество ячеек (по выбору заказчика): от 4 до 5 шт.