Регистрация
deal.by
  • Система атомно-слоевого осаждения Arradiance GemStar XT - фото 1 - id-p172372736
  • Система атомно-слоевого осаждения Arradiance GemStar XT - фото 2 - id-p172372736
  • Система атомно-слоевого осаждения Arradiance GemStar XT - фото 3 - id-p172372736
Система атомно-слоевого осаждения Arradiance GemStar XT - фото 1 - id-p172372736
Характеристики и описание
    • Производитель
    • Страна производитель
      США

Описание:

  • Небольшая занимаемая площадь и настольное исполнение, делающие систему незаменимой в лабораторных условиях.
  • Камера, вмещающая пластины диаметром до 200 мм и изделия до 33 мм в высоту.
  • Конструкция с нагреваемыми до 300 °С стенками, позволяющая достичь равномерности распределения температуры по подложке ±1 °C посредством конвекции (опционально доступен нагреваемый до 500 °С держатель подложек).
  • Оснащение 8 высокоскоростными клапанами, соединенными с двумя внешними газовыми линиями и 6 емкостями, обеспечивающими возможность работы с 8 прекурсорами и позволяющими получать разнообразные тонкие пленки и их комбинации.

 

Другие особенности системы:

  • Доступны две нагреваемые емкости (до четырех опционально) и линия подачи инертного газа для прекурсоров с низким давлением паров.
  • Система подачи газа с горизонтально расположенным массивом сопел обеспечивает равномерное распределение газа по подложке.
  • Возможность точно контролировать давление и время процесса с помощью вакуумного клапана поточного типа для управления экспозицией.
  • Возможность работы с микро- и нанопорошками.

Система управления:

  • Прецизионный контроль температуры прекурсоров на всем протяжении линии подачи от емкости до камеры, позволяющий исключить конденсацию прекурсоров.
  • Высокоскоростные клапаны, обеспечивающие точный контроль дозирования прекурсоров.
  • Особая конструкция линии подачи и форлинии, позволяющая достичь высоких скоростей продувки и сокращения времени циклов.
  • Стандартный измерительный порт KF40, позволяющий установить опциональные кварцевые микровесы либо оснастку для покрытия частиц.
  • Встроенный модуль управления через USB.
  • Возможность создания и сохранения параметров режимов нанесения, обеспечивающая высокую повторяемость.
  • Запись всех параметров процесса во время работы.

Новые возможности и гибкость:

  • Возможность реализации плазменного атомно-слоевого осаждения.
  • Линии для металлоорганических, окисляющих и восстанавливающих прекурсоров с максимальной температурой нагрева до 200 °С.
  • Нагреваемая вакуумная линия KF50 повышенной пропускной способности для увеличения скорости откачки (опционально).
  • Атмосферная камера (опционально).
  • Продвинутое программное обеспечение.

Простота обслуживания:

  • Удобное и эргономичное настольное исполнение системы с легким доступом к узлам.
  • Простой доступ к системе подачи прекурсоров, обеспечивающий быструю смену емкостей.
  • Модульная система, позволяющая легко выполнять обслуживание и чистку узлов за минимальное время.
  • Газоотвод через систему термического разложения (скруббер).

 

Технические характеристики систем серии

Максимальные размеры изделий

GS-4 XT: До 4” (100 мм)

GS-6 XT: До 6” (150 мм)

GS-8 XT: До 8” (200 мм)

Высота 33 мм

Размеры системы, Ш х Г х В

820 мм х 640 мм х 310 мм

Вес системы

68 кг

Режимы нанесения

Статический и динамический (с потоком)

Система управления

ПО GEMFlow™ на базе Windows с удобным пользовательским интерфейсом

Импорт/экспорт параметров процесса (рецептов) в виде файлов Excel

Встроенный модуль управления через USB

Температура подложек

25 – 300 °С с равномерностью поддержания < ± 1 °С (для пластины 8”)

Равномерность нанесения

< ± 1 % (1σ)в пределах подложки

< ± 2 % (1σ) от партии к партии

Корпус

Съемная верхняя панель

Заднее размещение подключений

Опции

Атмосферная камера

Нагреваемый до 500 °С держатель подложек

Насос

Скруббер

Генератор озона

Комплект для плазменного АСО (для GS-6 XT и GS-8 XT)

Количество прекурсоров

8 стандартных прекурсоров (4 металлоорганических, 4 окислителя/восстановителя), включая 2 нагреваемые емкости (4 опционально)

Дополнительная подача инертного газа

GS-4 XT: 4 стандартных клапана для прекурсоров (2 металлоорганических и 2 окислительных прекурсора)

GS-6 XT & GS-8 XT: 8 стандартных клапанов для прекурсоров (4 металлоорганических и 4 окислительных прекурсора)

Температурный контроль

Нагреваемые до 200 °С линии и 2 нагреваемые емкости (до 4 опционально)

Продувочный газ

1 линия подачи инертного газа для прекурсоров с низким давлением паров

Клапаны

2-ходовые, высокоскоростные, встроенные в линию с откликом 10 мс

Емкости для прекурсоров

Емкости 150 см3 из нержавеющей стали с отсечными клапанами

 

Сравнительные характеристики систем серии GemStar XT™

  GS-4 XT GS-6 XT GS-8 XT

GS-8 XT-P

Тип камеры

Термическое АСО

Термическое АСО (опционально плазменное АСО)

Термическое АСО

(опционально плазменное АСО)

Термическое АСО,

плазменное АСО

Манипулятор для 1 пластины

Ø100 мм

Ø150 мм

Ø200 мм

Ø200 мм

Групповое нанесение

5 пластин

5 пластин

5 пластин

5 пластин

Макс. температура

300 °С

300 °С

300 °С

300 °С

С опцией нагреваемого держателя

-

500 °С

500 °С

500 °С

Количество внешних линий подачи газа

1

2

2

2

Количество портов для прекурсоров

4

8

8

8

Максимальная температура линии

200 °С

200 °С

200 °С

200 °С

Количество емкостей 150 см3

0

(опционально 4)

3

(опционально 6)

3

(опционально 6)

6

Количество нагреваемых до 175 °С зон емкостей

0

(опционально 2)

2

(опционально 4)

2

(опционально 4)

2

(опционально 4)

Количество внешних газовых портов с шаровыми клапанами

0

(опционально 1)

2

(опционально до 4)

2

(опционально до 4)

2

(опционально до 4)

Тип фланца вакуумной линии

KF25

(опционально KF50)

KF25

(опционально KF50)

KF25

(опционально KF50)

KF50

Измерительный порт

KF40

KF40

KF40

KF40

Ноутбук с установленным ПО

Доступен опционально

Включен

Включен

Включен

Атмосферная камера

Доступна опционально

Доступна опционально

Доступна опционально

Доступна опционально

Система генерации озона

Доступна опционально

Доступна опционально

Доступна опционально

Доступна опционально

Комплект для плазменного АСО

-

Доступен опционально

Доступен опционально

Доступен опционально

Опция генерации удаленной индуктивно связанной плазмы.

Был online: 23.04
ООО "Тактиком"
Рейтинг не сформирован
2 года на Deal.by

Система атомно-слоевого осаждения Arradiance GemStar XT

Под заказ
Цену уточняйте
Доставка
Оплата и гарантии